ltc水系剥离液

⑴ 如何去除负性光刻胶剥离液残留

这个主要看光刻胶的溶解特性，提出针对性的脱膜方法。有的用碱的水溶液可以脱膜，也有用有机溶剂。长时间丙酮浸泡

⑵ 水性可剥离乳液怎么做成水性油墨

高档水性油墨的工艺配方及其制造工艺—
一、高档水性油墨配方

1、水性黑色油墨配方：

名称 数量（份）

870型丙烯酸树脂液 30

乙醇 9

丙二醇丁醚 8

N330炭黑 10

酞菁蓝BGS（或华兰） 1.5

6240青莲 0.5

831乳液 10

824乳液 20

消泡剂 0.5

去离子水 10

1、大红

名称 数量（份）

870丙烯酸树脂液 30

乙醇 8

大红粉6、立素尔大红2 8

丙二醇丁醚 8

水性腊 1

831乳液 10

824乳液 20

消泡剂 0.5

去离子水 14.5

2、深绿

名称 数量（份）

870丙烯酸树脂液 30

乙醇 8

酞菁绿5、联苯胺黄3 8

831乳液 10

824乳液 20

水性腊 1

丙二醇丁醚 8

消泡剂 0.5

去离子水 14.5

3、天兰

名称 数量（份）

870丙烯酸树脂液 30

乙醇 8

酞菁蓝BGS6.5、钛白1.5 8

831乳液 10

824乳液 20

水性腊 1

丙二醇丁醚 8

消泡剂 0.5

去离子水 14.5

二、高档水性油墨制造工艺

按配方所需将丙烯酸树脂液、乙醇及部分去离子水，投入到分散釜内，充分搅拌分散均匀。

1、配方所需称准颜料、0.3份消泡剂投入到分散釜内，充分分散搅拌均匀。

2、分散好的物料移至砂磨进行研磨，研磨3－4道，测细度达到15um以下即可，否则再继续研磨，直到细度达到要求。

4、将研磨好的物料移至分散釜内，再按配方所需依次称准831乳液、824乳液、水性腊、丙二醇丁醚、剩余份消泡及去离子水投入分散釜内，充分分散均匀后即可。（分散机速度控制在300－500转/分左右）

三、、生产过程注意事项和质量控制

a)开始操作前应首先检查生产设备是否干净，能否正常运行。

b)生产车间一定要远离火源，阴凉通风、磨砂机的密封、冷却是否完好。

c)要严格按配方所需称好原料用量。

d)严格按先后投料次序进行操作。

e)各种原料进厂后，应先做小批量试验室生产，以确保工业产品质量。

四、各种原料规格型号、产地及参考价格

名称 型号 参考价格

870水性丙烯酸树脂液 中山英杰柔印科技有限公司

824水性丙烯酸乳液 中山英杰柔印科技有限公司

831水性丙烯酸乳液 中山英杰柔印科技有限公司

水性消泡剂1803.8－4万元/吨

水性分散剂9202.8－3万元/吨

五、主要生产设备

1000立升电加溶解釜1台、高速分散机7.5－11千瓦/台、高速砂磨机（卧式）1台

六、试验室检验设备如下

名称 数量

（1）100－300ml具塞量筒 1套

（2）刮板细度计（100um） 1台

（3）小型砂磨机（2L） 1台

（4）保温烘箱 1台

（5）试验设备一套（搅拌、电炉等） 1套

（6）光泽计 1台

（7）自动酸价滴定仪 1台

（8）250ml棕小口瓶 1箱

（9）比色纸、比色刀、调墨刀各 1套

（10）粘度计（涂料4号铜杯） 1台

（11）展色轮 1个

（12）40倍放大镜 1个

（13）丝网刮棒 2支

七、产品检验方法

该产品所有指标均参照企业标准检验。

⑶ 已知有机物A是光刻胶剥离液的主要成分之一，用于液晶显示器等，也可制高纯度医药制剂，F的最简式与D的分

A水解得到B和C，B能被氧化，则B是醇，C是酸，C能发生显色反应，又能和碳酸氢钠溶液反应，所以C中含有羧基、酚羟基两种官能团；
B能发生连续氧化反应，F为对应的酯，再结合A的分子式及F的最简式与D的分子式相同，所以F是甲酸甲酯，D是甲醛，B是甲醇；
根据原子守恒知，C的分子式为C7H6O5，除去羧基，分子中应该含有3个酚羟基，因为A的部分结构与C相似，A中相同的官能团处于邻位，不同的官能团处于对位，所以A的结构简式为：，因为丁基有4种结构，两个官能团连在同一苯环上有邻、间、对3种结构，所以符合条件的同分异构体有12种，
故答案为：12．

⑷ 化工剥离液大量吸入会有什么危险

稀二醛溶液大量吸入接触有哪些危害?
丁二醛，化学药品，其水溶液对眼睛、皮肤有较强刺激作用。因其蒸气压较低，故吸入中毒的危险性较小。基本信息中文名称： 丁二醛

⑸ 前辈好！请问蚀刻剂 剥离剂 显影液都是什么 起什么作用能帮我介绍下吗

氧化锡/铟氧化锡蚀刻剂TE-100 是应用于微电子行业的氧化锡/铟氧化锡层的选择性蚀刻剂，可高效的对陶瓷，绝缘层，半导体和多种金属底层上的氧化锡/铟氧化锡沉淀膜进行蚀刻，具有边界清晰，蚀刻速度可控的特性，与正负性光刻胶良好兼容。TE-100 不可用于含镍，铜，镍锘合金和铝的材质。

特性：
外观--深琥珀色
蚀刻率（室温25°C）--15-20 Å / sec（浸没）
工作温度--40-50 °C
漂洗--去离子水
存储--20-25 °C
有效期--一年（15-25 °C）

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铬蚀刻剂Chromium Etchants
1020 and 1020AC
Transene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵铈产品，1020AC是不含硝酸的低速蚀刻剂，两种产品均可配合正负性光刻胶使用，1020 为渗入型，最小蚀刻尺寸达到0.2微米，1020AC可完成微细凹槽蚀刻，使用后用去离子水清洗即可

特性
1020 1020AC
外观： 透明，橙色 透明，橙色
比重 1.127-1.130 1.127-1.130
滤透尺寸 0.2 micron -----
工作温度 可变 可变
蚀刻率（ 40 °C） 40 Å / sec 32 Å / sec
存储 室温 室温
清洗 去离子水 去离子水

应用：蚀刻温度根据膜的厚度不同变化，室温下蚀刻时间从15秒到60秒。注意：操作必须在通风罩内进行。

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铬金属陶瓷蚀刻剂TFE（Chromium Cermet Etchant TFE）

铬金属陶瓷蚀刻剂TFE是一种应用于微电子行业的选择型铬蚀刻剂，可高效的蚀刻沉积在铜，镍，金底层上的铬薄膜。此种铁氰酸钾为主要成份的蚀刻剂仅可和负性光刻剂融合，另外，在TFE是蚀刻氧化铬，硅化铬和硅铬氧化沉积层的最佳选择。

特性：
外观： 琥珀色
蚀刻率： 15-20 Å / sec（50 °C）
工作温度： 40-60 °C
清洗： 去离子水
存储： 室温
光刻胶： 负性
兼容金属：金，铜，镍

应用：铬金属陶瓷蚀刻剂TFE是专用于蚀刻铜，金，镍材质感光底层上的铬，氧化铬，硅化铬和硅氧化铬薄膜的蚀刻剂。对于厚度较大的薄膜可以通过加热到40-60 °C以加快蚀刻速度

剥离剂 剥离剂（stripping agent）能将生物及其生成的粘泥从换热设备的金属表面或冷却塔壁上剥离的药剂。
显影液 developer
银盐胶片显影用的药液称显影液。
用于黑白胶片显影的显影液称黑白显影液，用于彩色胶片显影的称彩色显影液。
显影液的主要成分是显影剂。为了完善性能，通常还加一些其他成分，诸如促进显影的促进剂，防止显影剂氧化的保护剂，防灰雾生成的灰雾抑制剂和防灰雾剂等。
通过对各组分不同用量的调配可以得到不同性能的显影液，如微粒显影液、高反差显影液等......

⑹ 剥离液用在面板显示加工的哪些工艺环节

在OLED柔性显示面板的制作过程中，首先需要在硬质载体基板上形成一层PI膜层，然后在PI膜层上形成柔性衬底基板，在柔性衬底基板上制备OLED显示元件(包括OLED像素阵列和有机发光结构)和封装层，之后再采用机械剥离或激光照射剥离方法将制备好了OLED显示元件的柔性衬底基板和硬质载体基板剥离，得到OLED柔性显示面板。把柔性衬底基板从硬质载体基板上剥离的工艺是制程中的关键技术。
现有的机械剥离对产品的损伤较大，成品良率较低，这种方法已逐渐被淘汰。激光照射剥离方法是在载体基板背面(即载体基板未设置柔性显示面板的一侧)采用激光设备发射的高能激光光束进行扫描，使PI膜层发生变性，粘着性能下降，从而破坏柔性显示面板与载体基板之间的接触面的附着力，然后再使用物理手段如提拉、牵引、刀切等需要施加机械力的方式将柔性显示面板从硬质载体基板剥离下来。激光照射剥离方法需要高能激光扫描，导致生产效率较低，且激光设备的成本也很高，同时，高能激光扫描还有可能对制备的OLED显示元件带来一定的影响，进而影响柔性显示面板的性能。

⑺ 半导体的漂洗液，剥离液，抛光液，显影液分别是什么6寸晶圆

6寸硅单晶原材依制造不同的品项(例如线性或逻辑,等等)和制程(MOS,CMOS)不同才能确定设定漂洗液，剥离液，抛光液，显影液的成份;

⑻ 如何理解华为的LTC流程

首先，我的理解，Lead to Cash是根据销售周期（从客户有意向，或者说销售线索开始，到收到用户的付款为止），将整个组织的原有系统和分流程，整合/调整为端到端的流程，以便能更好的满足用户日益复杂的需求，交付，提高整个组织的运作效率（efficiency）和更快的市场反应（Effective），提升端到端的交付能力。在LTC的主流程下面，还有流程组，流程，子流程。

具体到华为，我不了解，没有发言权。在设备供应商，E/ALU/N/ZTE都已经开始LTC的流程重构。

我觉得之所以在Tier 1的设备供应商开始，是符合了整个通信设备行业的大的趋势，
1. 产品线日趋复杂的同时，产品线之间的边界开始变得模糊，
2. 市场份额越来越向大的供应商集中，同时，这些大的供应商开始往服务，集成，solution provider发展；这两个也互为因果；
3. 通信设备制造商，开始很频繁的剥离，收购，业务整合，对整个管理带来了很大的挑战；
4. 设备制造业整体利润率逐步走低
5. 各主流厂商之间技术的差距越来越小，竞争越来越多的体现在整体能力上，比如反应速度，比如交付的速度和质量，比如支持能力上；

⑼ 正性光刻胶、正胶显影液、正胶剥离液的储存条件是什么啊

光刻胶一般温度较低情况存储比较好，可以放置冰柜中，
显影液，剥离液可以常温存放，放置到储物柜即可