ltc水系剝離液

⑴ 如何去除負性光刻膠剝離液殘留

這個主要看光刻膠的溶解特性，提出針對性的脫膜方法。有的用鹼的水溶液可以脫膜，也有用有機溶劑。長時間丙酮浸泡

⑵ 水性可剝離乳液怎麼做成水性油墨

高檔水性油墨的工藝配方及其製造工藝—
一、高檔水性油墨配方

1、水性黑色油墨配方：

名稱 數量（份）

870型丙烯酸樹脂液 30

乙醇 9

丙二醇丁醚 8

N330炭黑 10

酞菁藍BGS（或華蘭） 1.5

6240青蓮 0.5

831乳液 10

824乳液 20

消泡劑 0.5

去離子水 10

1、大紅

名稱 數量（份）

870丙烯酸樹脂液 30

乙醇 8

大紅粉6、立素爾大紅2 8

丙二醇丁醚 8

水性臘 1

831乳液 10

824乳液 20

消泡劑 0.5

去離子水 14.5

2、深綠

名稱 數量（份）

870丙烯酸樹脂液 30

乙醇 8

酞菁綠5、聯苯胺黃3 8

831乳液 10

824乳液 20

水性臘 1

丙二醇丁醚 8

消泡劑 0.5

去離子水 14.5

3、天蘭

名稱 數量（份）

870丙烯酸樹脂液 30

乙醇 8

酞菁藍BGS6.5、鈦白1.5 8

831乳液 10

824乳液 20

水性臘 1

丙二醇丁醚 8

消泡劑 0.5

去離子水 14.5

二、高檔水性油墨製造工藝

按配方所需將丙烯酸樹脂液、乙醇及部分去離子水，投入到分散釜內，充分攪拌分散均勻。

1、配方所需稱准顏料、0.3份消泡劑投入到分散釜內，充分分散攪拌均勻。

2、分散好的物料移至砂磨進行研磨，研磨3－4道，測細度達到15um以下即可，否則再繼續研磨，直到細度達到要求。

4、將研磨好的物料移至分散釜內，再按配方所需依次稱准831乳液、824乳液、水性臘、丙二醇丁醚、剩餘份消泡及去離子水投入分散釜內，充分分散均勻後即可。（分散機速度控制在300－500轉/分左右）

三、、生產過程注意事項和質量控制

a)開始操作前應首先檢查生產設備是否干凈，能否正常運行。

b)生產車間一定要遠離火源，陰涼通風、磨砂機的密封、冷卻是否完好。

c)要嚴格按配方所需稱好原料用量。

d)嚴格按先後投料次序進行操作。

e)各種原料進廠後，應先做小批量試驗室生產，以確保工業產品質量。

四、各種原料規格型號、產地及參考價格

名稱 型號 參考價格

870水性丙烯酸樹脂液 中山英傑柔印科技有限公司

824水性丙烯酸乳液 中山英傑柔印科技有限公司

831水性丙烯酸乳液 中山英傑柔印科技有限公司

水性消泡劑1803.8－4萬元/噸

水性分散劑9202.8－3萬元/噸

五、主要生產設備

1000立升電加溶解釜1台、高速分散機7.5－11千瓦/台、高速砂磨機（卧式）1台

六、試驗室檢驗設備如下

名稱 數量

（1）100－300ml具塞量筒 1套

（2）刮板細度計（100um） 1台

（3）小型砂磨機（2L） 1台

（4）保溫烘箱 1台

（5）試驗設備一套（攪拌、電爐等） 1套

（6）光澤計 1台

（7）自動酸價滴定儀 1台

（8）250ml棕小口瓶 1箱

（9）比色紙、比色刀、調墨刀各 1套

（10）粘度計（塗料4號銅杯） 1台

（11）展色輪 1個

（12）40倍放大鏡 1個

（13）絲網刮棒 2支

七、產品檢驗方法

該產品所有指標均參照企業標准檢驗。

⑶ 已知有機物A是光刻膠剝離液的主要成分之一，用於液晶顯示器等，也可制高純度醫葯制劑，F的最簡式與D的分

A水解得到B和C，B能被氧化，則B是醇，C是酸，C能發生顯色反應，又能和碳酸氫鈉溶液反應，所以C中含有羧基、酚羥基兩種官能團；
B能發生連續氧化反應，F為對應的酯，再結合A的分子式及F的最簡式與D的分子式相同，所以F是甲酸甲酯，D是甲醛，B是甲醇；
根據原子守恆知，C的分子式為C7H6O5，除去羧基，分子中應該含有3個酚羥基，因為A的部分結構與C相似，A中相同的官能團處於鄰位，不同的官能團處於對位，所以A的結構簡式為：，因為丁基有4種結構，兩個官能團連在同一苯環上有鄰、間、對3種結構，所以符合條件的同分異構體有12種，
故答案為：12．

⑷ 化工剝離液大量吸入會有什麼危險

稀二醛溶液大量吸入接觸有哪些危害?
丁二醛，化學葯品，其水溶液對眼睛、皮膚有較強刺激作用。因其蒸氣壓較低，故吸入中毒的危險性較小。基本信息中文名稱： 丁二醛

⑸ 前輩好！請問蝕刻劑 剝離劑 顯影液都是什麼 起什麼作用能幫我介紹下嗎

氧化錫/銦氧化錫蝕刻劑TE-100 是應用於微電子行業的氧化錫/銦氧化錫層的選擇性蝕刻劑，可高效的對陶瓷，絕緣層，半導體和多種金屬底層上的氧化錫/銦氧化錫沉澱膜進行蝕刻，具有邊界清晰，蝕刻速度可控的特性，與正負性光刻膠良好兼容。TE-100 不可用於含鎳，銅，鎳鍩合金和鋁的材質。

特性：
外觀--深琥珀色
蝕刻率（室溫25°C）--15-20 Å / sec（浸沒）
工作溫度--40-50 °C
漂洗--去離子水
存儲--20-25 °C
有效期--一年（15-25 °C）

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鉻蝕刻劑Chromium Etchants
1020 and 1020AC
Transene的1020和1020AC鉻蝕刻劑是一種高純度可精確清潔蝕刻鉻或氧化鉻薄膜的硝酸銨鈰產品，1020AC是不含硝酸的低速蝕刻劑，兩種產品均可配合正負性光刻膠使用，1020 為滲入型，最小蝕刻尺寸達到0.2微米，1020AC可完成微細凹槽蝕刻，使用後用去離子水清洗即可

特性
1020 1020AC
外觀： 透明，橙色 透明，橙色
比重 1.127-1.130 1.127-1.130
濾透尺寸 0.2 micron -----
工作溫度 可變 可變
蝕刻率（ 40 °C） 40 Å / sec 32 Å / sec
存儲 室溫 室溫
清洗 去離子水 去離子水

應用：蝕刻溫度根據膜的厚度不同變化，室溫下蝕刻時間從15秒到60秒。注意：操作必須在通風罩內進行。

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鉻金屬陶瓷蝕刻劑TFE（Chromium Cermet Etchant TFE）

鉻金屬陶瓷蝕刻劑TFE是一種應用於微電子行業的選擇型鉻蝕刻劑，可高效的蝕刻沉積在銅，鎳，金底層上的鉻薄膜。此種鐵氰酸鉀為主要成份的蝕刻劑僅可和負性光刻劑融合，另外，在TFE是蝕刻氧化鉻，硅化鉻和硅鉻氧化沉積層的最佳選擇。

特性：
外觀： 琥珀色
蝕刻率： 15-20 Å / sec（50 °C）
工作溫度： 40-60 °C
清洗： 去離子水
存儲： 室溫
光刻膠： 負性
兼容金屬：金，銅，鎳

應用：鉻金屬陶瓷蝕刻劑TFE是專用於蝕刻銅，金，鎳材質感光底層上的鉻，氧化鉻，硅化鉻和硅氧化鉻薄膜的蝕刻劑。對於厚度較大的薄膜可以通過加熱到40-60 °C以加快蝕刻速度

剝離劑 剝離劑（stripping agent）能將生物及其生成的粘泥從換熱設備的金屬表面或冷卻塔壁上剝離的葯劑。
顯影液 developer
銀鹽膠片顯影用的葯液稱顯影液。
用於黑白膠片顯影的顯影液稱黑白顯影液，用於彩色膠片顯影的稱彩色顯影液。
顯影液的主要成分是顯影劑。為了完善性能，通常還加一些其他成分，諸如促進顯影的促進劑，防止顯影劑氧化的保護劑，防灰霧生成的灰霧抑制劑和防灰霧劑等。
通過對各組分不同用量的調配可以得到不同性能的顯影液，如微粒顯影液、高反差顯影液等......

⑹ 剝離液用在面板顯示加工的哪些工藝環節

在OLED柔性顯示面板的製作過程中，首先需要在硬質載體基板上形成一層PI膜層，然後在PI膜層上形成柔性襯底基板，在柔性襯底基板上制備OLED顯示元件(包括OLED像素陣列和有機發光結構)和封裝層，之後再採用機械剝離或激光照射剝離方法將制備好了OLED顯示元件的柔性襯底基板和硬質載體基板剝離，得到OLED柔性顯示面板。把柔性襯底基板從硬質載體基板上剝離的工藝是製程中的關鍵技術。
現有的機械剝離對產品的損傷較大，成品良率較低，這種方法已逐漸被淘汰。激光照射剝離方法是在載體基板背面(即載體基板未設置柔性顯示面板的一側)採用激光設備發射的高能激光光束進行掃描，使PI膜層發生變性，粘著性能下降，從而破壞柔性顯示面板與載體基板之間的接觸面的附著力，然後再使用物理手段如提拉、牽引、刀切等需要施加機械力的方式將柔性顯示面板從硬質載體基板剝離下來。激光照射剝離方法需要高能激光掃描，導致生產效率較低，且激光設備的成本也很高，同時，高能激光掃描還有可能對制備的OLED顯示元件帶來一定的影響，進而影響柔性顯示面板的性能。

⑺ 半導體的漂洗液，剝離液，拋光液，顯影液分別是什麼6寸晶圓

6寸硅單晶原材依製造不同的品項(例如線性或邏輯,等等)和製程(MOS,CMOS)不同才能確定設定漂洗液，剝離液，拋光液，顯影液的成份;

⑻ 如何理解華為的LTC流程

首先，我的理解，Lead to Cash是根據銷售周期（從客戶有意向，或者說銷售線索開始，到收到用戶的付款為止），將整個組織的原有系統和分流程，整合/調整為端到端的流程，以便能更好的滿足用戶日益復雜的需求，交付，提高整個組織的運作效率（efficiency）和更快的市場反應（Effective），提升端到端的交付能力。在LTC的主流程下面，還有流程組，流程，子流程。

具體到華為，我不了解，沒有發言權。在設備供應商，E/ALU/N/ZTE都已經開始LTC的流程重構。

我覺得之所以在Tier 1的設備供應商開始，是符合了整個通信設備行業的大的趨勢，
1. 產品線日趨復雜的同時，產品線之間的邊界開始變得模糊，
2. 市場份額越來越向大的供應商集中，同時，這些大的供應商開始往服務，集成，solution provider發展；這兩個也互為因果；
3. 通信設備製造商，開始很頻繁的剝離，收購，業務整合，對整個管理帶來了很大的挑戰；
4. 設備製造業整體利潤率逐步走低
5. 各主流廠商之間技術的差距越來越小，競爭越來越多的體現在整體能力上，比如反應速度，比如交付的速度和質量，比如支持能力上；

⑼ 正性光刻膠、正膠顯影液、正膠剝離液的儲存條件是什麼啊

光刻膠一般溫度較低情況存儲比較好，可以放置冰櫃中，
顯影液，剝離液可以常溫存放，放置到儲物櫃即可